7月15日,由國家知識產(chǎn)權(quán)局和世界知識產(chǎn)權(quán)組織共同評選的第二十一屆中國專利獎?wù)桨l(fā)布授獎決定,上海微電子公司發(fā)明專利“一種步進光刻設(shè)備及光刻曝光方法(ZL201110241791.3)”榮獲第二十一屆中國專利優(yōu)秀獎,這也是上海微電子公司獲得的第九項中國專利優(yōu)秀獎。
上海微電子裝備(簡稱SMEE)主要致力于半導(dǎo)體裝備、泛半導(dǎo)體裝備、高端智能裝備的開發(fā)、設(shè)計、制造、銷售及技術(shù)服務(wù)。公司設(shè)備廣泛應(yīng)用于集成電路前道、先進封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領(lǐng)域。